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混床式超纯水设备: 混床为深度脱盐设备,用于制造超纯水,产水电阻率为10-18M 。CM25℃),二氧化硅含量(Si02)≦0.02mg/L。混床分为单、双床、抛光床,双床可一用一备,可并可串联。混床中阳、阴离子混合均匀,离子交换反应几乎是同时进行的,相当于多级复杂串联;但混床对进水水质的要求较严格。需配反渗透或复床作为预处理装置。